一位美国工程师的表示,一个零件就要调整多达数十年之久。

    荷兰阿斯麦最先进的光刻机,集成了大量来自德国,日本,美国的技术。

    光刻机的光源设备主要来自美国公司Cymer,镜头则来自德国蔡司。

    据业内人士的说法,光刻机的零件几乎都是定制,90%使用了世界最先进的加工技术,甚至一些接口都要工程师,用高精度机械进行打磨,尺寸调整次数可能高达百万次以上。

    如此困难的技术要求,造成了光刻机极低的产量,光刻机技术基本十年才会大更新一次。

    而一台EUV光刻机,就需要差不多十万个零部件,这些零部件不可能,由一家公司自己生产出来。

    阿斯麦之所以能成功,也是与美国,德国等众多企业合作的结果,而且还是靠美国军方的支持下,才有了现在的地位。

    这也是为什么,美国一句话,就可以禁止他对华出售高端光刻机。

    但是再怎么难,易安国也要挑战一下这个难度。

    所以易安国不仅投资巨资,给自己的微电子设备公司搞技术研发,还投资给供应链上的公司,加快技术研发的进度,并入股这些公司。

    比如物镜系统的国望光学,赛微电子。

    尽管他们只能拿出90纳米节点的投影光刻机曝光系统,但只要继续研究,总会更进一步的。

    而且90纳米节点的投影光刻机曝光系统,华星微电子设备公司也有用的。

    造不出先进的光刻机,就先造90纳米制程工艺的光刻机,也是可以的,不仅国内有很大的市场,国际也有很大的市场。

    不是所有的芯片,都要求60纳米,45纳米,28纳米的制程工艺光刻机,事实上,很多普通的芯片,90纳米制程工艺的光刻机,也是够用了。